400-6699-117轉(zhuǎn)1000
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誠(chéng)信認(rèn)證:
工商注冊(cè)信息已核實(shí)!參考報(bào)價(jià): | ¥1000萬(wàn)-1500萬(wàn) RMB(人民幣) | 型號(hào): | Helios 5 DualBeam |
品牌: | 賽默飛 | 產(chǎn)地: | 北京 |
關(guān)注度: | 1411 | 信息完整度: | |
樣本: | 典型用戶: | 暫無(wú) | |
價(jià)格范圍 | ¥1000萬(wàn)-1500萬(wàn) |
發(fā)射源(離子光學(xué)系統(tǒng)) | 高穩(wěn)定性肖特基場(chǎng)發(fā)射槍 | 分辨率(離子光學(xué)系統(tǒng)) | 0.6nm@15kev 1.0nm@1kev |
加速電壓 | 500 V – 30 kV |
400-6699-117轉(zhuǎn)1000
FIB雙束掃描電鏡是指同時(shí)具有聚焦離子束(FocusedIonBeam,F(xiàn)IB)和掃描電子顯微鏡(ScanningElectronMicroscope,SEM)功能的儀器。它可以實(shí)現(xiàn)SEM實(shí)時(shí)觀測(cè)FIB微加工過(guò)程的功能,把電子束高空間分辨率和離子束精細(xì)加工的優(yōu)勢(shì)集于一身。
產(chǎn)品描述:
新一代的賽默飛世爾科技 Helios 5 DualBeam 具有 Helios 5 產(chǎn)品系列業(yè)界領(lǐng)先的高性能成像和分析性能。它經(jīng)過(guò)精心設(shè)計(jì),可滿足材料科學(xué)研究人員和工程師對(duì)最廣泛的 FIB-SEM 使用需求,即使是最具挑戰(zhàn)性的樣品。
Helios 5 DualBeam 重新定義了高分辨率成像的標(biāo)準(zhǔn):最高的材料對(duì)比度,最快、最簡(jiǎn)單、最精確的高質(zhì)量樣品制備,用于 S/TEM 成像和原子探針斷層掃描(APT)以及最高質(zhì)量的亞表面和 3D 表征。在 Helios DualBeam 系列久經(jīng)考驗(yàn)的性能基礎(chǔ)上,新一代的 Helios 5 DualBeam 進(jìn)行了改進(jìn)優(yōu)化,所有這些都旨在確保系統(tǒng)處于手動(dòng)或自動(dòng)工作流程的最佳運(yùn)行狀態(tài)。
產(chǎn)品參數(shù):
半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)參數(shù):
Helios 5 CX | Helios 5 HP | Helios 5 UX | Helios 5 HX | Helios 5 FX | ||
樣品制備與XHR掃描電鏡成像 | 最終樣品制備(TEM薄片,APT) | STEM亞納米成像與樣品制備 | ||||
SEM | 著陸電壓 | 20ev-30kev | 20ev-30kev | |||
分辨率 | 0.6nm@15kev 1.0nm@1kev | 0.6nm@2kev 0.7nm@1kev 1.0nm@500ev | ||||
STEM | 分辨率@30kev | 0.7nm | 0.6nm | 0.3nm | ||
FIB制備過(guò)程 | 最大材料去除束流 | 65nA | 100nA | 65nA | ||
最終最優(yōu)拋光電壓 | 2kv | 500v | ||||
TEM樣品制備 | 樣品厚度 | 50nm | 15nm | 7nm | ||
自動(dòng)化 | 否 | 是 | 是 | |||
樣品處理 | 行程 | 110×110 ×65mm | 110×110 ×65mm | 150×150 ×10mm | 100×100 ×20mm | 100×100× 20mm+5軸(S)TEMCompustage |
負(fù)載鎖 | 手動(dòng) | 自動(dòng) | 手動(dòng) | 自動(dòng) | 自動(dòng)+自動(dòng)插入/提取STEM桿 |
材料科學(xué)行業(yè)技術(shù)參數(shù):
Helios 5 CX | Helios 5 UX | ||
離子光學(xué) | 具有優(yōu)越的高電流性能的Tomahawk HT 離子鏡筒 | 具有優(yōu)越的大電流和低電壓性能的Phoenix離子鏡筒 | |
離子束電流范圍 | 1 pA – 100 nA | 1 pA – 65 nA | |
加速電圧 | 500 V – 30 kV | 500 V – 30 kV | |
最大水平視場(chǎng)寬度 | 在光束重合點(diǎn)時(shí)為0.9 mm | 在光束重合點(diǎn)時(shí)為0.7 mm | |
離子源壽命 | 1,000 hours | 1,000 hours | |
兩級(jí)差動(dòng)泵 | 兩級(jí)差動(dòng)泵 | ||
飛行時(shí)間矯正 | 飛行時(shí)間矯正 | ||
15孔光闌 | 15孔光闌 | ||
電子光學(xué) | Elstar超高分辨率場(chǎng)發(fā)射鏡筒 | Elstar超高分辨率場(chǎng)發(fā)射鏡筒 | |
磁浸沒物鏡 | 磁浸沒物鏡 | ||
高穩(wěn)定性肖特基場(chǎng)發(fā)射槍提供穩(wěn)定的高分辨率分析電流 | 高穩(wěn)定性肖特基場(chǎng)發(fā)射槍提供穩(wěn)定的高分辨率分析電流 | ||
電子束分辨率 | 最佳工作距離下 | 0.6 nm at 30 kV STEM | 0.6 nm at 30 kV STEM |
0.6 nm at 15 kV | 0.7 nm at 1 kV | ||
1.0 nm at 1 kV | 1.0 nm at 500 V (ICD) | ||
0.9 nm at 1 kV 減速模式* | |||
在束流重合點(diǎn) | 0.6 nm at 15 kV | 0.6 nm at 15 kV | |
1.5 nm at 1 kV 減速模式* and DBS* | 1.2 nm at 1 kV | ||
電子束參數(shù) | 電子束流范圍 | 0.8 pA to 176 nA | 0.8 pA to 100 nA |
加速電壓范圍 | 200 V – 30 kV | 350 V – 30 kV | |
著陸電壓 | 20 eV – 30 keV | 20 eV – 30 keV | |
最大水平視場(chǎng)寬度 | 2.3 mm at 4 mm WD | 2.3 mm at 4 mm WD | |
探測(cè)器 | Elstar 鏡筒內(nèi) SE/BSE 探測(cè)器 (TLD-SE, TLD-BSE) | ||
Elstar i鏡筒內(nèi)SE/BSE 探測(cè)器 (ICD)* | |||
Elstar 鏡筒內(nèi) BSE 探測(cè)器 (MD)* | |||
樣品室內(nèi)Everhart-Thornley SE 探測(cè)器 (ETD) | |||
紅外相機(jī) | |||
高性能離子轉(zhuǎn)換和電子探測(cè)器(SE)* | |||
樣品室內(nèi)樣品導(dǎo)航彩色光學(xué)相機(jī)Nav-Cam Camera* | |||
可伸縮式低電壓、高襯度、分割式固態(tài)背散射探測(cè)器(DBS)* | |||
可伸縮STEM 3+ 探測(cè)器* | |||
電子束流測(cè)量 | |||
樣品臺(tái)和樣品 | 樣品臺(tái) | 靈活五軸電動(dòng) | 壓電驅(qū)動(dòng)XYR軸的高精度五軸電動(dòng)工作臺(tái) |
XY | 110 mm | 150 mm | |
Z | 65 mm | 10 mm | |
R | 360° (連續(xù)) | 360° (連續(xù)) | |
傾斜 | -15° to +90° | -10° to +60° | |
最大樣品高度 | 與優(yōu)中心點(diǎn)間隔85mm | 與優(yōu)中心點(diǎn)間隔55mm | |
最大樣品質(zhì)量 | 樣品臺(tái)任意位置500 g | 樣品臺(tái)任意位置500 g | |
0° 傾斜時(shí)最大5kg | |||
最大樣品尺寸 | 直徑110 mm可沿樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)時(shí) | 直徑150 mm可沿樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)時(shí) | |
優(yōu)中心旋轉(zhuǎn)和傾斜 | 優(yōu)中心旋轉(zhuǎn)和傾斜 |
特點(diǎn)與用途:
更易于使用:
Helios 5 是所有體驗(yàn)級(jí)別用戶最容易使用的 DualBeam。操作員培訓(xùn)可以從幾個(gè)月縮短到幾天,系統(tǒng)設(shè)計(jì)可幫助所有操作員在各種高級(jí)應(yīng)用程序上實(shí)現(xiàn)一致、可重復(fù)的結(jié)果。
提高了生產(chǎn)率:
Helios 5 和 AutoTEM 5 軟件的先進(jìn)自動(dòng)化功能,增強(qiáng)的穩(wěn)健性和穩(wěn)定性允許無(wú)人值守甚至夜間操作,顯著提高樣品制備通量。
改善時(shí)間和結(jié)果:
Helios 5 DualBeam 現(xiàn)在包括 FLASH,這是一種調(diào)整圖像的新概念。對(duì)于傳統(tǒng)的顯微鏡,每次操作員需要獲取圖像時(shí),必須通過(guò)迭代對(duì)中仔細(xì)調(diào)整顯微鏡。使用 Helios 5 DualBeam,屏幕上的簡(jiǎn)單手勢(shì)將激活 FLASH,將自動(dòng)調(diào)整這些參數(shù)。自動(dòng)調(diào)整可以顯著提高通量、數(shù)據(jù)質(zhì)量并簡(jiǎn)化高質(zhì)量圖像的采集。
賽默飛(原FEI)Helios 5 DualBeam 雙束掃描電鏡 高質(zhì)量樣品制備信息由北京歐波同光學(xué)技術(shù)有限公司為您提供,如您想了解更多關(guān)于賽默飛(原FEI)Helios 5 DualBeam 雙束掃描電鏡 高質(zhì)量樣品制備報(bào)價(jià)、型號(hào)、參數(shù)等信息,歡迎來(lái)電或留言咨詢。
注:該產(chǎn)品未在中華人民共和國(guó)食品藥品監(jiān)督管理部門申請(qǐng)醫(yī)療器械注冊(cè)和備案,不可用于臨床診斷或治療等相關(guān)用途
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