光學異構體的命名步驟及原則
光學異構體的構型有兩種表示方法D、L和R、S,D 、L標記法以甘油醛為標準,有一定的局限性,有些化合物很難確定它與甘油醛結構的對應關系,因此,更多的是應用R、S標記法,它是根據(jù)手性碳原子所連四個不同原子或基團在空間的排列順序標記的。光學異構體一般用投影式表示,要掌握費歇爾投影式的投影原則及構型的判斷方法。
根據(jù)投影式判斷構型,首先要明確,在投影式中,橫線所連基團向前,豎線所連基團向后;再根據(jù)“次序規(guī)則”排列手性碳原子所連四個基團的優(yōu)先順序,將最小基團氫原子作為以碳原子為中心的正四面體頂端,其余三個基團為正四面體底部三角形的角頂,從四面體底部向頂端方向看三個基團,從大到小,順時針為R,逆時針為S。
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