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OPTON微觀世界 | 第40期 掃描電鏡觀察電化學沉積法制備的MoSi2涂層形貌
背景介紹
高溫抗氧化涂層在航空航天領(lǐng)域是至關(guān)重要的部分。一種成功的抗氧化涂層首先必須與基體材料有著化學或者物理上的相容性；其次，在材料溫度適用范圍內(nèi)，更能提供一層連續(xù)、致密的氧阻擋層[1]；再者，涂層要有方便、經(jīng)濟的制備工藝等。MoSi2有著高熔點（2030℃），良好的導電性和導熱性，優(yōu)異的高溫抗氧化特性，是一種廣泛應(yīng)用的高溫材料?，F(xiàn)已發(fā)展為用于高溫合金和碳/碳復(fù)合材料高溫抗氧化保護涂層[2]。
本實驗采用電化學沉積法制備鉬基體表面MoSi2涂層，圖(a)是在900度氧化10h的表面形貌。圖(b)是鉬基體表面B改性MoSi2涂層，在900度氧化10h的表面形貌。
圖1 相同實驗條件下不同方式制備涂層表面形貌
結(jié)果表明：圖a涂層經(jīng)過氧化后在表面形成了一層SiO2氧化膜。該涂層主要用于鉬及鉬合金表面防護，以提高其在高溫環(huán)境下的服役時間。圖b涂層經(jīng)過氧化后在表面形成了一層由SiO2和B2O3構(gòu)成的氧化膜。通過B的改性，可以降低MoSi2涂層在中低溫段氧化時的“粉化”傾向，進而提高其抗氧化能力。
參考文獻
[1] Thomas A Kircher,et al.Engineering limitations coatings. Mater Sci Eng. 1992. A155:67
[2] 蔡作乾，等編著. 陶瓷材料辭典.北京：化學工業(yè)出版社,2002
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