ASTM D5544-05
在線測量高純度水蒸發(fā)后殘留物的標準試驗方法

Standard Test Method for On-Line Measurement of Residue After Evaporation of High-Purity Water

被代替

標準號

ASTM D5544-05

發(fā)布

2005年

發(fā)布單位

美國材料與試驗協(xié)會

替代標準

ASTM D5544-11

當(dāng)前最新

ASTM D5544-16(2023)

 

 

適用范圍

即使是所謂的高純水也會含有污染物。雖然并不總是存在，但這些污染物可能會產(chǎn)生以下一種或多種：溶解的活性離子物質(zhì)，例如鈣、鎂、鈉、鉀、錳、銨、碳酸氫鹽、硫酸鹽、硝酸鹽、氯離子和氟離子、鐵離子和亞鐵離子，和硅酸鹽；溶解有機物質(zhì)，如殺蟲劑、除草劑、增塑劑、苯乙烯單體、去離子樹脂材料；以及膠體懸浮液，例如二氧化硅。雖然該測試方法有助于用一臺儀器實時監(jiān)測高純水中的這些污染物，但該測試方法無法識別殘留污染的各種來源或檢測溶解的氣體或懸浮顆粒。該測試方法使用稱重的人工污染物（氯化鉀）進行校準。氯化鉀的密度是高純水中發(fā)現(xiàn)的污染物的相當(dāng)?shù)湫偷拿芏?；然而，該測試方法的響應(yīng)顯然是基于對氯化鉀的響應(yīng)。對高純水中發(fā)現(xiàn)的實際污染物的響應(yīng)可能與測試方法的校準不同。在這方面，該測試方法與許多其他分析測試方法沒有什么不同。與其他監(jiān)測方法一起，該測試方法可用于診斷超純水系統(tǒng)中 RAE 的來源。特別是，該測試方法可用于檢測泄漏，例如初級陰離子或混合床去離子器的流出物中膠態(tài)二氧化硅的滲漏。此外，該測試方法已用于測量新液體過濾器的沖洗時間，并適用于批量式采樣（該測試方法中未描述這種調(diào)整）。立即獲得高純水污染情況對于那些使用高純水制造零部件的行業(yè)具有重要意義；可以立即停止生產(chǎn)以糾正污染問題。生物醫(yī)學(xué)和發(fā)電行業(yè)也將從這一信息中受益。
1.1 本測試方法涵蓋半導(dǎo)體、航空航天和其他行業(yè)使用的高純水中溶解的有機物和無機物以及膠體物質(zhì)的測定。這種材料稱為蒸發(fā)殘留物 (RAE)。測試方法的范圍為0.1 g/L(ppb)至20 mg/L(ppm)。
1.2 本測試方法采用連續(xù)、實時監(jiān)測技術(shù)來測量RAE的濃度。高純水的加壓樣品通過超凈配件和管道連續(xù)供應(yīng)至測試方法的設(shè)備。因此，可以防止大氣污染物進入樣品。有關(guān)測試方法的一般信息以及有關(guān) RAE 連續(xù)測量的文獻綜述已發(fā)表。
1.3 以 SI 單位表示的值應(yīng)被視為標準。括號中給出的值僅供參考。
1.4 本標準并不旨在解決與其使用相關(guān)的所有安全問題（如果有）。本標準的使用者有責(zé)任在使用前建立適當(dāng)?shù)陌踩徒】祵嵺`并確定監(jiān)管限制的適用性。有關(guān)具體危險說明，請參閱第 8 節(jié)。

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