ISO 14237:2010
表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜.用均勻摻雜物質(zhì)測(cè)定硅中硼的原子濃度

Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)

ISO 14237:2010

發(fā)布

2010年

發(fā)布單位

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織

當(dāng)前最新

ISO 14237:2010

 

 

引用標(biāo)準(zhǔn)

ISO 17560 ISO 18114

適用范圍

本國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用均勻摻雜材料測(cè)定單晶硅中硼原子濃度的二次離子質(zhì)譜方法，該方法由經(jīng)認(rèn)證的硼注入?yún)⒖疾牧闲?zhǔn)。 該方法適用于濃度范圍為1×1016原子/cm3至1×1020原子/cm3的均勻摻雜硼。

專題

ISO 14237:2010相似標(biāo)準(zhǔn)

ISO 14237:2010 中可能用到的儀器設(shè)備

誰(shuí)引用了ISO 14237:2010 更多引用